Description
Obiektyw FujiFilm Fujinon XF 16-55 mm f/2.8 R LM WR Obiektyw Fujinon XF to zoom o zakresie ogniskowych 24-84 mm oraz stałym świetle f/2,8. Model ten wyposażono w 14 specjalnych uszczelek, dzięki czemu jest on odporny na niekorzystne warunki atmosferyczne, kurz, a także niskie temperatury, nawet do -10 °C. Obiektyw gwarantuje wysoki komfort użytkowania, a co więcej odznacza się szerokim zakresem zastosowania. Doskonale sprawdzi się zarówno w fotografii portretowej, jak i krajobrazowej. Jego dodatkową zaletą jest elegancki wygląd, a wykonany z mosiądzu bagnet obiektywu dodatkowo zwiększa jego wytrzymałość. Najwyższej klasy optyka do aparatów FujiFilm X – Fujinon XF 16-55 mm f/2.8 R LM WR Seria XC – to przystępne cenowo a jednocześnie gwarantujące wysokiej jakości obraz obiektywy zmiennoogniskowe. Są doskonałym rozwiązaniem dla początkujących użytkowników. Serii XF – kierowana do wymagających użytkowników obejmuje zarówno stałoogniskowe obiektywy o doskonałych jasnościach jak i obiektywy zmiennoogniskowe. Seria XF z dodatkowym oznaczeniem WR – to specjalnie uszczelniane, dedykowane do pracy w niekorzystnych warunkch atmosferycznych modele o doskonałych parametrach optycznych i mechanicznych. Przeznaczenie – FujiFilm Fujinon XF 16-55 mm f/2.8 R LM WR XF 16-55 mm f/2.8 R LM WR to profesjonalny obiektyw typu zoom dedykowany do bezlusterkowych aparatów FujiFilm. Najwyższej jakości optyka, stała jasność, uszczelniana konstrukcja, szybki AF oraz zakres ogniskowych 16-55 mm sprawiają, że model ten jest podstawowym narzędziem pracy wielu zawodowych reporterów, fotografów ślubnych czy podróżników. FujiFilm Fujinon XF 16-55 mm f/2.8 R LM WR cechuje się doskonałą jakością optyczną Cechą szczególnie wyróżniającą obiektyw XF 16-55 jest jego najwyższa jakość optyczna. Na konstrukcję obiektywu składa się 17 elementów rozmieszczonych w 12 grupach. Wśród nich zastosowano aż 3 soczewki asferyczne =odpowiedzialne za wyjątkową ostrość i szczegółowość& oraz 3 soczewki ze szkła ED ograniczające aberrację chromatyczną oraz zapewniające doskonałą ostrość na całej powierzchni. Bardzo wysoki poziom ostrości oraz równomierność naświetlenia =brak winietowania& występuje nawet przy maksymalnym otworze przysłony f/2,8. Autorskie powłoki przeciwodblaskowe W obiektywie XF 16-55 mm f/2.8 R LM WR zastosowano aż dwie technologie powłok Fujifilm: HT-EBC oraz Nano-GI =Gradient Index&. Wpłynęło to na zdecydowane ograniczenie występowania flar i tzw. duszków. Praca pod światło jest bardzo przyjemna i mało kiedy występująca flara jest efektem przypadkowym. Takie rozwiązanie zwiększa użyteczność obiektywu pozwalając na swobodne użytkowanie nawet w ostrym słońcu. Najczęściej używany zakres ogniskowych Zastosowany w obiektywie zakres ognioskowych 16-55 mm odpowiada kątom widzenia charakterystycznym dla ogniskowych 24-84 mm w aparatach małoobrazkowych. Są to najczęściej używane ogniskowe w niemal każdym rodzaju fotografii, od fotografii reporterskiej, r
