Fotoforma – Filtr ochronny MC UV K&F Concept Nano-X B270 55mm

Description

Filtr ochronny MC UV K&F Concept Nano-X B270 55mm   Kołowy filtr ultrafioletowy MC-UV Nano-X marki K&F Concept. Zastosowana w jego produkcji zielona powłoka zwiększa przepuszczalność światła aż do 99,6%. Soczewka została wykonana z wysokiej jakości szkła optycznego Schott B270, które jest wielokrotnie polerowane w celu osiągnięcia jak najmniejszego współczynnika załamania światła. Zadaniem filtra UV jest redukcja promieniowania ultrafioletowego, co w praktyce skutkuje zmniejszeniem zamglenia atmosferycznego, widocznego szczególnie w fotografii krajobrazowej. Korzystanie z odpowiednich akcesoriów pozwala uchwycić na zdjęciach więcej szczegółów oraz nieznacznie podkreślić kontrast ujęcia. Filtr pełni także funkcję ochronną, zabezpieczając soczewkę obiektywu przed uszkodzeniem mechanicznym, osadzającymi się pyłkami czy kurzem. Seria Nano-X to filtry wielopowłokowe =multi-coated&, pozbawione nieestetycznego efektu zafarbu. Skutecznie redukują odblaski oraz bliki świetlne. Dzięki dodatkowemu utwardzeniu szkła są także wyjątkowo odporne na powstawanie rys i odprysków. Charakteryzują się również wysoką odpornością na wodę i tłuste plamy, dzięki czemu na przedniej soczewce nie powstają zacieki, a zanieczyszczenia osadzają się trudniej i są bardzo łatwe do usunięcia. Wyjątkowo cienka =3,3 mm&, czerniona galwanicznie aluminiowa ramka pozwala z powodzeniem korzystać z nich przy obiektywach szerokokątnych bez obawy o powstanie winiety. Dokładnie przywiera do obiektywu, zaś profilowane wgłębienia ułatwiają montaż i demontaż. Filtr jest podwójnie gwintowany, co umożliwia jednoczesne stosowanie dodatkowych akcesoriów, takich jak inne filtry czy osłona przeciwsłoneczna. Cechy – K&F Concept Nano-X B270 55mm: Wielopowłokowy filtr MC UV Skuteczna redukcja promieniowania ultrafioletowego Wyjątkowo wysoka przepuszczalność światła – 99,6% Wytrzymałe szkło optyczne Schott B270 Dodatkowa funkcja ochronna obiektywu Antyrefleksyjne powłoki Nano Odporność na powstawanie zacieków z wody czy oleju Łatwe czyszczenie Ultracienka aluminiowa ramka 3,3 mm, redukująca efekt winiety Średnica: 55 mm Zastosowanie – K&F Concept Nano-X B270 55mm Ochronne, wielopowłokowe filtry MC-UV znajdują zastosowanie głównie w fotografii podróżniczej i krajobrazowej – są szczególnie użyteczne podczas pracy w górach czy przy rozległych akwenach, gdzie dalsze plany są lekko zamglone. Redukując efekt zamglenia podkreślają kontrast ujęcia i korzystnie wpływają na przejrzystość dalszych planów. Akcesoria sygnowane marką K&F Concept Nano-X to wysokiej jakości filtry fotograficzne, które spełnią oczekiwania wszystkich użytkowników, zarówno amatorów, jak i profesjonalistów. Ich antyodblaskowe i ochronne powłoki gwarantują wygodę pracy i bezpieczeństwo obiektywu. Postaw na wysoką jakość i ciesz się atrakcyjnymi, pełnymi szczegółów fotografiami!